知的財産セミナー
特許庁委託 平成20年度招へい研究者成果報告会のご案内


 (財)知的財産研究所では、特許庁から委託を受けた産業財産権研究推進事業の一環として、欧米やアジア諸国等の産業財産権分野の研究者を招へいし、我が国における今後の産業財産権分野の政策の基礎となる研究テーマについて研究を行わせています。
 この度、平成20年8月より招へいした韓国の研究者が約6か月の招へい期間を終え帰国の予定です。そこで、研究成果の発表及び参加者との意見交換を行う場を設けるために、研究成果報告会を下記のとおり開催いたしますので、ご案内申し上げます。

――――――――――――― 開  催  内  容 ―――――――――――――

日 時 平成21年1月19日(月) 15:00−16:50 (14:30受付開始)
会 場 (財)知的財産研究所 会議室 
東京都千代田区麹町3-4 トラスティ麹町ビル3階
         東京メトロ有楽町線 麹町駅(3番出口)より徒歩1分
         東京メトロ半蔵門線 半蔵門駅(5番出口)より徒歩5分
         JR中央線 四ッ谷駅より徒歩8分
         JR中央線 市ヶ谷駅より徒歩10分
参加費 無料
定 員 60名 (先着順)
プログラム
14:30 受付開始
15:00 開会・主催者あいさつ
15:05−16:35 『応用美術(デザイン)の法的保護
−韓国と日本の意匠法、不正競争防止法及び著作権法の比較を中心に−』

チャ・サンユク (車 相陸) 招へい研究者

(※研究者の発表は韓国語で行い、日本語の逐次通訳が付きます。)
 
16:35−16:50 質疑応答
16:50 閉会
 ※報告要旨と報告者の紹介は、下記をご覧ください。
申込方法
受付終了いたしました。
◆申込締切 平成21年1月16日(金)
※定員になり次第締め切らせていただきます。
問合せ先 (財)知的財産研究所 岩井(いわい)
〒102-0083 東京都千代田区麹町3-4 トラスティ麹町ビル3階
Tel:03-5275-5284;   Fax:03-5275-5323;
 
『応用美術(デザイン)の法的保護
−韓国と日本の意匠法、不正競争防止法及び著作権法の比較を中心に−』
チャ・サンユク (車 相陸) 招へい研究者

【要旨】

近年、デザインの法的保護に関連して、ドイツ、英国などで意匠法が改定され、韓国のデザイン保護法、日本の意匠法の改正も行われた。

このような改正の流れの中で、応用美術を含めたデザインを登録制度で保護するか未登録制度で保護するかの問題、登録意匠権として保護する場合に、登録出願手続に、審査主義を採用するか無審査主義を採用するか、あるいは、これらを併用するかの問題、さらに、未登録デザインの保護に関して、権利付与方式を選択するか、行為規整方式を選択するかの問題、そして意匠法(デザイン保護法)と著作権法の重畳的保護の問題等、それらの選択においては極めて難しい争点を含んでいる。

この研究では、このような世界的なデザイン関連法制の改正動向を考慮しつつ、韓国と日本の応用美術に係る保護法制を比較法的に検討、分析することにその方向性をおいている。この研究は、特に、両国の著作権法、韓国のデザイン保護法と日本の意匠法、並びに両国の不正競争防止法などを比較法的に検討し、応用美術の法的保護に関する立法態度とその運用の現状に関して詳細に見るとともに、両国の裁判例も併せて検討し、これらを通じて示唆される点を導き出そうとするものである。

【略歴】

韓国・漢陽大学校大学院法学科 博士課程単位取得。

現在、韓国 法務法人常緑パートナー。

【招へい期間】 平成20年8月4日〜平成21年1月24日(予定)
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