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開催済み セミナー・研究成果報告会

平成28年8月29日
特許庁委託 産業財産権研究推進事業
平成28年度招へい研究者 研究成果報告会の御案内

一般財団法人知的財産研究教育財団、知的財産研究所では、特許庁から委託を受け、我が国の適切な産業財産権制度の設計・構築を推進するために、産業財産権に関する制度調和や制度整備が中期的に必要となる研究テーマについて、主に将来を担う国内外の研究者に研究を行わせ、我が国・諸外国の産業財産権に精通した研究者を輩出することを目的とした産業財産権研究推進事業を推進しています。その一環として、外国から研究者を招へいし、産業財産権に関する制度調和が必要となる研究テーマについて研究する機会を提供しています。

この度、平成28年6月下旬から招へいしている中国、北京大学の研究者が9月初めに約2か月の招へい期間を終えて帰国する予定です。そこで、研究成果の発表及び参加者との意見交換を行う場を設けるために、研究成果報告会を下記のとおり開催いたしますので、御案内申し上げます。

日 時

平成28年8月29日(月)15:00-17:00 (14:30受付開始)

会 場 一般財団法人知的財産研究教育財団 知的財産研究所 5階会議室 (地図
東京都千代田区神田錦町三丁目11番地 精興竹橋共同ビル5階
          東京メトロ東西線 竹橋駅(3b出口)より徒歩4分
          東京メトロ半蔵門線、都営新宿線神保町駅より徒歩8-10分
          都営三田線 神保町駅(A9出口)より徒歩3分
参加費 無料
定 員 60名(先着順)
プログラム
14:30 受付開始
15:00 開会・主催者挨拶
15:05~16:35 " Exploration of the Patent Prosecution and Patent Litigation System in Japan "
『特許審査及び特許訴訟制度の研究』 (仮訳)

LIU, Yinliang (リュウ・インリャン)招へい研究者
(※研究者の発表は英語で行い、日本語の逐次通訳が付く予定です。)
16:35~17:00 質疑応答
17:00 閉会

申込方法 受付終了いたしました。
申込締切り 平成28年8月26日(金)
※定員になり次第締め切らせていただきます。
問合せ先 一般財団法人知的財産研究教育財団 知的財産研究所 金子(かねこ)
〒101-0054 東京都千代田区神田錦町三丁目11番地  精興竹橋共同ビル5階
Tel:03-5281-5672;   Fax:03-5281-5676;

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“ Exploration of the Patent Prosecution and Patent Litigation System in Japan “
『特許審査及び特許訴訟制度の研究』 (仮訳)

LIU, Yinliang (リュウ・インリャン)招へい研究者

【Abstract】

This research will explore the patent prosecution and litigation system in Japan, involving the procedures of patent trials, appeals, opposition and litigation, aiming at investigating the rationale and efficiency of the patent prosecution system in Japan. It will also compare the patent prosecution systems in German and the United States, among others. The methodology of the research will include analysis of the law systems, literature review, interviews, and collection of the statistical data and relevant cases. Its conclusion can help understand the patent prosecution and litigation system in Japan and its experience could be expectedly useful for China to modify its Patent Law regarding patent prosecution and litigation procedures, including the patent court system.

 【概要】 (仮訳)

本報告は、日本の特許審査制度の理論的根拠と効率性の検証を目的として、特許審判、異議申立、不服申し立て・訴訟の手続など、日本の特許審査及び特許訴訟制度について調査した結果を報告するものである。また、諸外国、とりわけドイツと米国の特許審査制度との比較も行なった。本調査比較は、法律制度の分析、文献の検討、ヒアリング、統計データ及び関連事件例の収集などの手法で行った。本報告では、本研究で導かれた結論が、日本の特許審査及び特許訴訟制度の理解促進に貢献するとともに、この日本における経験が、中国がその特許裁判制度を含む、特許審査及び特許訴訟に関する特許法を改善するのに役立つものであることを示す。

【略歴】

煙台大学生化学学士、北京大学生命科学修士、北京大学法学博士。中国政法大学准教授を経て、現在、北京大学法学部知的財産法教授。

【招へい期間】平成28年6月30日~平成28年9月1日(予定)

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