平成29年10月13日、14日、知的財産研究所は、「平成29年度知的財産保護包括協力推進事業」（特許庁委託）の一環として、中国側の共同研究者に日本の制度についての理解を深め、日本の産業界や実務家の意見・要望を聞き、意見交換を行うために、東京において第二回の会議を開催しました。

ワークショップ（10月13日）

日中共同研究のテーマの一つが知的財産専門裁判所に関するものでありますが、日本の知的財産高等裁判所を直接訪問し、裁判官、裁判所職員、技術調査官の方々から知的財産高等裁判所に関する説明を受け、意見交換を行いました。

研究者会議（10月14日）

当日の午後は、一橋大学の井上由里子教授に商品化権とパブリシティ権についてご講演いただき、その後、産業界を代表して一般社団法人日本知的財産協会から産業界の観点からみた中国の知的財産訴訟及び部分意匠制度に関する所見や要望等をご講演いただき、意見交換を行いました。今回の会議により、日中の知財関係者の共通理解を深めることができました。