2021年10月29日、30日、知財研は、「令和3年度知的財産保護包括協力推進事業」（特許庁委託）の一環として、中国側の共同研究者に日本の制度についての理解を深め、日本の産業界や実務家の意見・要望を聞き、意見交換を行うために、オンラインで第2回の会議を開催しました。

意見交換会（10月29日）

午前は日本を代表する企業の1つであるキヤノン株式会社より知財ご担当者をお迎えし、ソフトウェア関連技術の特許保護について同社の取組みや課題に関する説明を受け、意見交換を行いました。
午後は、産業界を代表して一般社団法人日本自動車工業会、一般社団法人日本知的財産協会より「JAMAが期待する知財保護の在り方」、「専利指南改正（21年8月公表版）および中国知財実務に対する要望－意匠・ソフトウェア・特許を中心に－」と題してご講演いただき、産業界や産業財産法やその隣接する法律又はその運用に関して、どのような改善を求め、ご要望があるか等、意見交換を行いました。

研究者会議（10月30日）

日中両国から実務家をお招きし、本年度の研究テーマ「国際的な意匠保護の在り方に関する研究」、「ソフトウェア関連技術の特許保護に関する比較研究」に則して、実務的な観点からご講演いただき、更に、意見交換を行いました。これにより、日中の知的財産権制度の実情についての情報を交換し、相互理解を深めました。 次回は、来年の1月に、中国の政府関係者を対象として、日中共同研究の研究成果の発表会を開催する予定となっています。