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開催済み セミナー・研究成果報告会
平成30年7月4日（水）
特許庁委託 産業財産権制度調和に係る共同研究調査事業
平成30年度招へい研究者 研究成果報告会
一般財団法人知的財産研究教育財団、知的財産研究所では、特許庁から委託を受け、我が国企業が海外各国において活動しやすい産業財産権制度の導入を促すため、主に日本を含む複数国間において産業財産権制度に関する制度調和を進める上で抱える中期的に必要な課題に関し、日本の産業財産権制度に対して深い理解を有する研究者が調査・共同研究を実施し、得られた研究成果及び研究者のネットワークを活用して産業財産権制度に関する制度調和を推進することを目的とした事業を推進しています。その一環として、外国から研究者を招へいし、主に日本を含む複数国間において産業財産権に関する制度調和が必要となる課題について研究する機会を提供しています。
この度、中国出身で米国で研究を行っている研究者が７月上旬に１か月余の招へい期間を終えて帰国する予定です。そこで、研究成果の発表及び参加者との意見交換を行う場を設けるために、研究成果報告会を下記のとおり開催いたしますので、御案内申し上げます。
| 日 時 | 平成30年7月4日（水）10：00－12：00 （9：30受付開始・開場 これ以前には入場できない場合があります。） |
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| 会 場 | 一般財団法人知的財産研究教育財団 知的財産研究所 5階会議室 （地図） 東京都千代田区神田錦町三丁目11番地 精興竹橋共同ビル 5階 東京メトロ東西線 竹橋駅（3ｂ出口）より徒歩5分 東京メトロ東西線 竹橋駅（1ｂ出口）より徒歩4分 東京メトロ半蔵門線、都営新宿線神保町駅より徒歩8分 都営三田線 神保町駅（Ａ9出口）より徒歩3分 |
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| 参加費 | 無料 | ||||||||||||
| 定 員 | 60名 （先着順) | ||||||||||||
| プログラム |
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“ The Distribution of the Value of Japanese Patents in the World “ Wang, Runhua（ワン・ルンファ）招へい研究者 |
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| 【Abstract】
Understanding the mapping of patent value in geographic areas and industries is important for patent owners, the industry, and a county. Before developing any patent strategies in the oversea market, it is important for patent owners to understand the distribution of their patent value. It is also important for Japanese government to know the potential opportunities for Japanese technologies in the world when the government encourages technology transfer and exports. This research is a dynamic study to understand the distribution of the value of Japanese patents by industry in the world across years as the fluctuation of the development of economy and technology. |
| 【概要】
（仮訳）
様々な地理的領域と産業における特許価値のマッピングを理解することは、特許権者、産業界及び国にとって重要なことである。特許権者にとっては、海外市場における特許戦略を策定する前に、まずは自身の有する特許の価値の分布を理解することが重要である。日本政府にとっても、政府が技術移転や輸出を奨励するにあたり、世界における日本の技術の潜在的な機会を知っておくことが重要となる。本研究は、経済と技術の発展の変動を示すものとしての、世界における日本の特許価値の産業別分布について理解するための動態的研究である。 |
| 【略歴】 北京航空航天大学より学士（理学）及びLLB、米国イリノイ大学LLM及びJSDの学位を取得。現在、イリノイ大学College of Lawポスドク研究員。 【招へい期間】平成30年6月4日～平成30年7月6日（予定） |