平成30年9月28日、29日、知的財産研究所は、「平成30年度知的財産保護包括協力推進事業」（特許庁委託）の一環として、中国側の共同研究者に日本の制度についての理解を深め、日本の産業界や実務家の意見・要望を聞き、意見交換を行うために、東京において第二回の会議を開催しました。

ワークショップ（9月28日）

日中共同研究のテーマに合わせて、日本を代表する企業の1つであるソニー株式会社を直接訪問し、当社の知財担当者の方々から知的財産に係る取組みや課題に関する説明を受け、意見交換を行いました。
当日の午後は、産業界を代表して一般社団法人日本知的財産協会、日本商標協会から産業界や実務的な観点からみた中国の知的財産法制に関する所見や要望等をご講演いただき、意見交換を行いました。今回の会議により、日中の知財関係者の共通理解を深めることができました。

研究者会議（9月29日）

日中両国から実務家をお招きし、本年度の研究テーマについて実務的な観点からご講演いただき、更に、意見交換を行いました。これにより、日中の知的財産権制度の実情についての情報を交換し、相互理解を深めました。
次回は、来年の1月に、北京で中国の政府関係者を対象として、日中共同研究の研究成果の発表会を開催する予定となっています。