2019年9月21日、22日、当研究所は、「平成31年度知的財産保護包括協力推進事業」（特許庁委託）の一環として、中国側の共同研究者に日本の制度についての理解を深め、日本の産業界や実務家の意見・要望を聞き、意見交換を行うために、東京において第二回の会議を開催しました。

意見交換、ワークショップ（9月20日）

日中共同研究の本年度のテーマ「企業の知財管理に関する研究」に合わせて、午前は日本を代表する企業の1つであるパナソニック株式会社を訪問し、当社の知財担当者の方々から知的財産に係る取組みや課題に関する説明を受け、意見交換を行いました。
午後は、産業界を代表して昨年度に引き続き、一般社団法人日本知的財産協会、日本商標協会より「未定専利法下部規則の改正に関する産業界の要望」、「周知著名商標の保護～実務上の観点から」と題してご講演いただき、産業界や産業財産法やその隣接する法律又はその運用に関して、どのような改善を求め、ご要望があるか等、意見交換を行いました。

研究者会議（9月21日）

日中両国から実務家をお招きし、本年度の研究テーマ「特許法における間接侵害に関する研究」、「外国著名商標の保護の在り方に関する研究」に則して、実務的な観点からご講演いただき、更に、意見交換を行いました。これにより、日中の知的財産権制度の実情についての情報を交換し、相互理解を深めました。 次回は、来年の1月に、北京で中国の政府関係者を対象として、日中共同研究の研究成果の発表会を開催する予定となっています。