2020年1月4日、5日、知財研は、「平成31年度知的財産保護包括協力推進事業」（特許庁委託）の一環として、中国側の共同研究者に日本の制度についての理解を深め、日本の産業界や実務家の意見・要望を聞き、意見交換を行うために、北京において第三回の会議を開催しました。

ワークショップ（2020年1月4日終日、1月5日午後）

日中共同研究者により、それぞれ担当する研究テーマに関する共同研究の成果を報告しました。会場に最高人民法院、北京市高級人民法院、北京知識産権法院、国家市場監督管理総局、国家知識産権局、中華商標協会、清華大学、北京外国語大学、中央民族大学、北京化工大学、中央財経大学、アリババ社、法律事務所等から中国の知財関係者をお招きし、成果発表に基づいて、意見交換を行い、双方の共通理解を深めました。

研究者会議（2020年1月5日午前）

日中共同研究に係る第三回の研究者会議を開催しました。今回の会議では、一年間の共同研究について振り返り、研究報告書の各テーマに関するまとめ案について、積極的な議論を行い、意見交換を行いました。また、今後の日中における知的財産法制に関する共同研究全般について、活発な意見交換を行いました。

　　　

訪問（2020年1月6日）

1月６日には、最高人民法院知識産権法廷を訪問し、同広報エリアや先進的な設備を備えた法廷を見学するとともに、最高人民法院副院長で知識産権法廷長の羅東川大法官を始めとする裁判官から最近の取り組みなどの紹介を受けました。裁判ルールの統一化を目的に、高級人民法院を経ず最高人民法院で審理するためのこの知識産権法廷は、２０１９年１月１日に設立されて以来、１年で２千件の技術専門性の高い案件の上訴を受理したと紹介されました。今後も、日中における交流を続け、共通理解を深めたいとのことでした。翌７日の新聞「人民法院報」には、訪問の様子が紹介されました。