2024年10月11日、12日、知財研は、「令和6年度知的財産保護包括協力推進事業」（特許庁委託）の一環として、中国側の共同研究者に日本の制度についての理解を深め、日本の産業界や実務家の意見・要望を聞き、意見交換を行うために、東京において第二回会議を開催しました。

意見交換会（10月11日）

午前は日本を代表する企業の1つである古河電気工業株式会社を訪問し、知財ご担当者の方々より展示スペースFunLabの紹介、同社のご紹介や企業知財実務の取り組みや課題認識に関する説明を受け、意見交換を行いました。
午後は、産業界を代表して一般社団法人日本知的財産協会、日本商標協会より「中国における複数の主体が関連する特許侵害について」、「中国部分意匠の若干問題」、「独禁法に関する若干問題」、「イノベーションボックス税制（パテントボックス税制）について」、「商標法・意匠法と不正競争防止法～代理人の立場から～」と題してご講演いただき、産業界や産業財産法やその隣接する法律又はその運用に関して、どのような改善を求め、ご要望があるか等、意見交換を行いました。

研究者会議（10月12日）

日中両国から実務家をお招きし、本年度の研究テーマ「国際的な事業活動における権利保護の在り方（並行輸入の違法性の検討を含めて）」、「商標法（及び意匠法）からみた不正競争防止法の保護領域」に則して、実務的な観点からご講演いただき、更に、意見交換を行いました。これにより、日中の知的財産権制度の実情についての情報を交換し、相互理解を深めました。 次回は、来年の1月に、中国の政府関係者を対象として、日中共同研究の研究成果の発表会を開催する予定となっています。